Poleret aluminiumnitrid ALN keramisk substrat

Poleret aluminiumnitrid ALN keramisk substrat

GRWAY® er en producent og leverandør afPoleret aluminiumnitrid ALN keramisk substratAluminiumnitrid (AlN) keramikken har høj varmeledningsevne (5-10 gange som aluminiumoxidkeramikken), lav dielektrisk konstant og dissipationsfaktor, god isolering og fremragende mekaniske egenskaber, giftfri, høj termisk modstand, kemisk modstand, og lineær ekspansionskoefficient svarer til Si, som er meget udbredt i kommunikationskomponenter, højeffekt-led, strømelektroniske enheder og andre områder.Specielle produkter kan fremstilles efter ønske.

Aluminiumnitrid ALN keramisk substrat YDELSE

 - Høj varmeledningsevne, høj bøjningsstyrke, høj temperatur

 - God elektrisk isolering

 - Lav dielektrisk konstant og tab

 - Kan laserbores, metalliseres, belægges og loddes

Almindelige dimensioner af AlN substrat/wafer

PS: Andre dimensioner, som ikke er angivet, er tilgængelige efter dine anmodninger.

Aluminiumnitrid (ALN) Keramisk substratfunktioner

1.Ensartet mikrostruktur

2.Høj termisk ledningsevne* (70-180 Wm-1K-1), skræddersyet via behandlingsbetingelser og additiver

3.Høj elektrisk resistivitet

4. Termisk udvidelseskoefficient tæt på siliciums

5. Modstand mod korrosion og erosion

6. Fremragende termisk stødmodstand

7.Kemisk stabil op til 980°C i H2- og CO2-atmosfære og i luft op til 1380°C (overfladeoxidation sker omkring 780°C; overfladelaget beskytter hovedparten op til 1380°C).